湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。

为了把无尘车间温湿度等要求保持规定的范围内，厂家需要支付资金来支持其运转。为什么要花这么多钱来控制无尘车间或洁净室的相对湿度呢?原因很简单!因为相对湿度有许多因素会影响无尘车间或洁净室的整体性能，如相对湿度太大或太小就会出现以下现象:

1、细菌生长；

2、在室内工作人员会感到不舒服；

3、出现静电荷；

4、金属腐蚀；

5、水汽冷凝；

6、光刻的退化；

7、材料出现吸湿现象等。

细菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。

高湿度实际上减小了无尘车间、洁净室表面的静电荷积累──这是大家希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。

相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体无尘车间、洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。

很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

在半导体无尘车间、洁净室中最迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是最严格的水准。

总而言之半导体无尘车间、洁净室中控制相对湿度不是随意的。如今随着科技的发展，除湿设备已广泛应用于人们的日常生活、工业生产、加工储存中。

根据上述要求，无尘车间用转轮除湿机会更好的控制其室内的温湿度要求，特别是在一些制药、食品加工、电子加工中对无尘车间中的温湿度要求是非常的高，普通的除湿是无法达到其要求。而尊龙凯时 - 人生就是搏!除湿设备中的转轮除湿机采用世界一流的超级硅胶/负荷分子筛转轮，可以用于要求露点温度低到-65℃除湿领域。

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